ЭБС "КОНСУЛЬТАНТ СТУДЕНТА"
12.00.00 Фотоника, приборостроение, оптические и биотехнические системы и технологии (МИСиС)
Все издания
Показано 1..3 из 3

12.00.00 Фотоника, приборостроение, оптические и биотехнические системы и технологии (МИСиС)

Учебное пособие дает представление о взаимодействии электромагнитного излучения с материалами, в том числе и с полупроводниками. Описаны фотоэлектрические явления в полупроводниках. Приведены примеры материалов, используемых для изготовления современных фотоэлементов. Пособие предназначено для подготовки специалистов по специальности 150601.65 "Материаловедение и технология новых материалов" в рамках курсов "Основы космических технологий" и "Технологическое оборудование, механизация и автоматизация в производстве и обработке материалов электронной техники", магистров по направлению "Материаловедение и технология новых материалов" в рамках курса "Физика и технологии приборов фотоники" и аспирантов по направлению "Физика полупроводников".
Загружено 2017-08-23 01:59:10

Полупроводниковые оптоэлектронные приборы

АвторыЮрчук С.Ю., Диденко С.И., Кольцов Г.И.
ИздательствоМИСиС
Год издания2006
Лабораторный практикум включает описание принципов работы основных оптоэлектронных полупроводниковых приборов: фоторезисторов, фотодиодов, фототранзисторов, оптронов и др. Представлены схемы измерения и методики расчета основных параметров и характеристик оптоэлектронных приборов. Для усвоения предлагаемого материала необходимо иметь базовые знания по курсам "Физика твердого тела", "Физика полупроводниковых приборов", "Квантовая и оптическая электроника". Предназначен для студентов специальности 210104 (2001) "Микроэлектроника и твердотельная электроника" (специализация "Физика и технология интегральных микросхем и полупроводниковых приборов").
Загружено 2017-08-25 01:57:30

Технология эпитаксиальных слоев и гетерокомпозоций

АвторыКожитов Л.В., Крапухин В.В., Улыбин В.А.
ИздательствоМИСиС
Год издания2001
Даны краткая история и пути и перспективы развития микроэлектроники, в частности, в области технологии эпитаксиальных гетерокомпозиций. <br>Кратко описаны процессы парофазной эпитаксии химическим осаждением и жидкофазной эпитаксии кремния, соединений ΑΙΠΒν и их твердых растворов, применяемого оборудования. Приведены математические модели этих процессов, включающие термодинамический и кинетический блоки. При получении гетерокомпозиций учитываются упругие напряжения и рассматриваются пути их устранения, в частности, создание изопериодных композиций и сверхрешеток. <br>Кроме того, приведены восемь комплексных задач для самостоятельного вычислительного эксперимента при выборе параметров процесса, а также процедура решения задач с использованием разработанного пакета программ на ПЭВМ. <br>Предназначено для студентов, обучающихся по специальности 200100 (направление 654100), а также для научных сотрудников и инженеровтехнологов, занимающихся разработкой систем управления и оптимизации технологических процессов.
Загружено 2019-09-17 03:34:11
  • 1