Искать
Везде
По названиям
По авторам
Издательство
Тип издания
Год издания
Издательства
Абрис
Академический Проект
Альпина ПРО
Альпина Бизнес Букс
Альпина нон-фикшн
Альпина Паблишер
Альтаир
АНТЕЛКОМ
АСВ
Аспект-Пресс
АСТ-ПРЕСС КНИГА
Белорусская наука
БИНОМ
Блок-Принт
Брянский ГАУ
ВАКО
ВГУИТ
Вече
ВКН
ВЛАДОС
Время
ВШОУЗ-КМК
Высшая школа экономики
Вышэйшая школа
Галарт
Гангут
Генезис
ГИОРД
Горная книга
Горячая линия - Телеком
Грамота
ГЭОТАР-Медиа
Дашков и К
Дело
Деловой стиль
Директ-Медиа
Директмедиа Паблишинг
Дмитрий Сечин
ДМК-пресс
ДОДЭКА
Зерцало-М
Златоуст
Знак
Ивановская ГСХА
Ивановский ГХТУ
Издательский дом "ГЕНЖЕР"
Издательский дом В. Ема
Институт общегуманитарных исследований
Институт психологии РАН
Интеллект-Центр
Интеллектуальная литература
Интермедиатор
Интермедия
ИНТУИТ
Инфра-Инженерия
Казанский ГМУ
Каро
КГАВМ
Книгодел
Книжный мир
КНИТУ
Когито-Центр
КолосС
Корвет
КТК "Галактика"
КФУ
Лаборатория знаний
Литтерра
Логос
Машиностроение
МГИМО
МГТУ им. Н.Э. Баумана
МГУ им. Ломоносова
Медицина
Международные отношения
Менеджер здравоохранения
Мир и образование
МИСИ - МГСУ
МИСиС
Молодая гвардия
МЭИ
Нижегородский ГАСУ
Новосибирcкий ГУ
Новосибирский ГТУ
Олимпия
Оренбургский ГУ
Оригинал-макет
Перо
Персэ
Политехника
Прогресс-Традиция
Прометей
Просвещение
Проспект
Проспект Науки
Р. Валент
РГ-Пресс
РГГУ
Ремонт и Сервис 21
РИПО
Родники
РУДН
Рукописные памятники Древней Руси
Русистика
Русско-китайское юридическое общество
Русское слово - учебник
РязГМУ
Санкт-Петербургский медико-социальный институт
САФУ
В. Секачев
Секвойя
СибГУТИ
СибГУФК
Сибирское университетское издательство
Синергия
СКИФИЯ
Советский спорт
СОЛОН-Пресс
Социум
Спорт
Ставропольский ГАУ
Статут
Стрелка Пресс
Студия АРДИС
СФУ
ТГАСУ
Текст
Теревинф
Терра-Спорт
Техносфера
Томский ГУ
Точка
Университетская книга
Феникс
Физматлит
Финансы и статистика
Флинта
Химиздат
Хоббитека
Человек
Эксперт-Наука
Юнити-Дана
Юстицинформ
ЮФУ
Языки славянских культур
отметить всеснять все метки
**Данные блоки поддерживают скрол
Типы изданий
автореферат диссертации
адресная/телефонная книга
антология
афиша
биобиблиографический справочник/словарь
биографический справочник/словарь
букварь
документально-художественное издание
задачник
идеографический словарь
инструктивно-методическое издание
инструкция
каталог
каталог аукциона
каталог библиотеки
каталог выставки
каталог товаров и услуг
материалы конференции (съезда, симпозиума)
монография
музейный каталог
научно-художественное издание
научный журнал
номенклатурный каталог
орфографический словарь
орфоэпический словарь
памятка
переводной словарь
песенник
практикум
практическое пособие
практическое руководство
прейскурант
препринт
пролегомены, введение
промышленный каталог
проспект
путеводитель
рабочая тетрадь
разговорник
самоучитель
сборник научных трудов
словарь
справочник
стандарт
тезисы докладов/сообщений научной конференции (съезда, симпозиума)
терминологический словарь
толковый словарь
уставное издание
учебная программа
учебник
учебно-методическое пособие
учебное наглядное пособие
учебное пособие
учебный комплект
хрестоматия
частотный словарь
энциклопедический словарь
энциклопедия
этимологический словарь
языковой словарь
отметить всеснять все метки
**Данные блоки поддерживают скрол вверх/вниз
АвторыБерлин Е.В., Григорьев В.Ю., Сейдман Л.А.

Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения

ИздательствоТехносфера
Тип изданияучебное пособие
Год издания2018
Озвучить текст
Скопировать биб. запись clipboard icon
Для каталогаБерлин, Е. В. Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения / Берлин Е. В. , Григорьев В. Ю. , Сейдман Л. А. - Москва : Техносфера, 2018. - 464 с. - ISBN 978-5-94836-519-0. - Текст : электронный // ЭБС "Консультант студента" : [сайт]. - URL : https://www.studentlibrary.ru/book/ISBN9785948365190.html (дата обращения: 29.03.2024). - Режим доступа : по подписке.
Аннотация
Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,01-0,04 мкм. Для технологии изготовления изделий с микро- и наноэлементами использование ВЧ разряда индуктивно связанной плазмы (ICP) как плазмообразующего источника предоставляет большие преимущества. В частности, с его помощью достигают высокую плотность плазмы (1011-1012 см-3), минимальный разброс ионов по энергиям (Aei < 5 эВ), относительно низкое рабочее давление (10-2-И0-1 Па) и низкую энергетическую цену иона (30-^80) эВ/ион. Благодаря отсутствию накаливаемых узлов источник ICP обладает большим ресурсом работы с химически активными газами. Особенно важно, что он предоставляет возможность независимого управления энергией и плотностью потока ионов, поступающих на подложку. Успехи в конструировании источников ICP для целей микроэлектроники побудили разработчиков оборудования применить их и в других отраслях, например в азотировании стальных деталей, обработке полимерных пленок и нанесении специальных покрытий методами PVD и PECVD. <br>За последнее десятилетие источники ICP нашли широкое промышленное применение, о котором появилось большое количество новой информации. Поэтому назрела необходимость составления обзора, цель которого - систематизация основных экспериментальных результатов разработки и применения источников ICP. В книге приведено описание принципов действия, особенностей и преимуществ источников ICP и рассмотрены многочисленные варианты конструкций современных источников ICR Приведены также примеры технологических применений описываемых источников для нанесения тонких пленок: в процессах PVD и PECVD. И кроме того, описано формирование плазмохимическим травлением трехмерных структур в различных материалах и двумерных структур в тонких пленках и связанное с такой обработкой существенное изменение свойств поверхностей различных материалов, в особенности полупроводников. <br>Таким образом, настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по конструкциям и применению источников ICR Книга рассчитана на студентов, аспирантов, конструкторов нового технологического оборудования, использующего источники ICR и технологов, работающих на таком оборудовании. Конструкторы найдут в ней обзор способов достижения высоких параметров источников ICP, а технологи ознакомятся с широким спектром их применения и полученных с их помощью достижений. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
Загружено 2019-11-18