ГЛАВА 1. Современные источники плазмы для технологических применений. Преимущества источников ICP

Поставить закладку

Если Вы наш подписчик,то для того чтобы скопировать текст этой страницы в свой конспект,
используйте просмотр в виде pdf. Вам доступно 3 стр. из этой главы.

Для продолжения работы требуется Registration

Предыдущая страница

Следующая страница

Введение

ГЛАВА 1. Современные источники плазмы для технологических применений. Преимущества источников ICP

ГЛАВА 2. Конструкции антенн источников ICP

ГЛАВА 3. Нанесение тонких пленок с ассистированием источником ICP

ГЛАВА 4. Плазмохимическое травление различных материалов с помощью источников ICP

ГЛАВА 5. Изменение свойств поверхности различных материалов при обработке в источнике ICP

Заключение

Список литературы

Данный блок поддерживает скрол*

ГЛАВА 1. Современные источники плазмы для технологических применений. Преимущества источников ICP

Table of contents