Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Элионная технология в микро- и наноиндустрии : неразрушающие методы контроля процессов осаждения и травления наноразмерных пленочных гетерокомпозиций
1. Традиционные методы и способы контроля процессов ионно-плазменной обработки материалов электронной техники
Поставить закладку
1.1. Физические основы и характеристика методов ионно-плазменной обработки
Если Вы наш подписчик,то для того чтобы скопировать текст этой страницы в свой конспект,
используйте
просмотр в виде pdf
. Вам доступно 6 стр. из этой главы.
Для продолжения работы требуется
Регистрация
Предыдущая страница
Следующая страница
Оглавление
Перечень сокращений
Введение
1. Традиционные методы и способы контроля процессов ионно-плазменной обработки материалов электронной техники
-
1.1. Физические основы и характеристика методов ионно-плазменной обработки
1.2. Вторичные эффекты ионно-плазменной обработки
1.3. Применение эффектов ионной бомбардировки для контроля технологических процессов ионно-плазменной обработки
1.4. Использование оптических эффектов для управления процессами ионно-плазменной обработки
1.5. Масс-спектрометрия ионно-плазменных процессов
1.6. Использование электрических сигналов для контроля процессов ионно-плазменной обработки
Контрольные вопросы
Домашние задания
2. Ионно-индуцированный ток в многослойных наноразмерных пленочных гетероструктурах в процессах ионно-лучевого нанесения и травления
+
3. Вторичная ионно-электронная эмиссия в процессе ионно-лучевого травления наноразмерных гетерокомпозиций
+
Заключение
Библиографический список
Данный блок поддерживает скрол*