Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Фотонно-стимулированные технологические процессы микро- и нанотехнологии
8. Лазерно-стимулированное осаждение эпитаксиальных слоев соединений АIIIВV и АIIВVI
Поставить закладку
8.1. Лазерно-стимулированная эпитаксия соединений АIIIВV
Если Вы наш подписчик,то для того чтобы скопировать текст этой страницы в свой конспект,
используйте
просмотр в виде pdf
. Вам доступно 20 стр. из этой главы.
Для продолжения работы требуется
Регистрация
Предыдущая страница
Следующая страница
Оглавление
Введение
1. Взаимодействие фотонного излучения с полупроводниковой поверхностью
+
2. Рекристаллизация аморфных и поликристаллических кремниевых слоев лазерным излучением
+
3. Лазерное легирование
4. Лазерно-стимулированное формирование контактов
+
5. Лазерно-стимулированное осаждение диэлектрических пленок
+
6. Лазерное осаждение металлов
+
7. Лазерно-стимулированные эпитаксиальные процессы осаждения кремниевых слоев
+
8. Лазерно-стимулированное осаждение эпитаксиальных слоев соединений АIIIВV и АIIВVI
-
8.1. Лазерно-стимулированная эпитаксия соединений АIIIВV
8.2. Лазерно-стимулированная эпитаксия соединений АIIВVI
9. Лазерная технология создания перспективной элементной базы СБИС. Планаризация микроструктур
+
Заключение
Список литературы
Данный блок поддерживает скрол*