Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Ионно-плазменная обработка материалов
Тема 1. Вакуум-плазменные процессы травления материалов
Для продолжения работы требуется
Registration
Предыдущая страница
Следующая страница
Table of contents
Тема 1. Вакуум-плазменные процессы травления материалов
-
1.1. Основы и классификация процессов ионно-плазменной технологии
1.2. Выбор рабочей среды для вакуум-плазменных процессов
1.3. Особенности плазмохимического и ионно-химического травления материалов
1.4. Селективность процессов плазмо- и ионно-химического травления
1.5. Анизотропия процессов ПХТ и ИХТ
1.6. Ионно-плазменная очистка поверхности материалов
1.7. Ионно-лучевое травление
1.8. Плазменное травление
1.9. Реактивное ионно-плазменное травление
1.10. Радиационно-стимулируемое травление (РСТ)
1.11. Фотонно-стимулированное травление
1.12. Электронно-стимулированное травление
1.13. Высокочастотное травление материалов
1.14. Повреждения поверхности материалов при ПХТ и ИХТ
1.15. Особенности переноса изображения с маски на рабочий материал при ионном травлении
Тема 2. Вакуум -плазменное нанесение тонких пленок
+
Тема 3. Ионный синтез и ионная кристаллизация
+
Тема 4. Возможности ионно-плазменных процессов для создания элементов микро - и наноэлектроники
+
Заключение
Библиографический список
Данный блок поддерживает скрол*